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- 4h-N Thickness: 350 Um±25um
- 4h-Si Thickness: 500 Um±25um
- Resistivity 4h-N: 0.015~0.028 Ω·cm
- Resistivity 6h-N: 0.02~0.1 Ω·cm
- Resistivity 4/6h-Si: >1e5 Omega;·cm
- Primary Flat: {10-10}±5.0°
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- 제조 기술: Epitaxy
- Dopant: Boron,Phos,Arsenic
- Orientation: <100>,<111>
- Conductivity Type: P/P++,N/N++,N/N+,N/N+/N++,N/P/P,P/N/N+
- Resistivity: 0.001-50ohm-Cm
- Res. Uniformity: Standard <6%,Maximum Capabilities <2%
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- Material: Hgtr-Ktp
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- Material: Bbo
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- Material: Kd*P
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- Orientation: <100> or <110>
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- Chemical Formula: Tb3ga5o12
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- Chemical: Zngep2
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