• 고순도 99.7% 알루미늄 세라믹 마포어 연마 플레이트
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고순도 99.7% 알루미늄 세라믹 마포어 연마 플레이트

Application: Wafer /Sapphire Polishing
Material: 99.7% Alumina
Type: Ceramic Disc
운송 패키지: Carton and Wooden Case.
사양: D180, 360, 450, 600mm customized size
등록상표: Chemshun Ceamics

공급 업체에 문의

골드 멤버 이후 2023

비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체

무역 회사
  • 개요
  • 제품 설명
  • 상세 사진
  • 제품 매개변수
개요

기본 정보

모델 번호.
Chemshun Ceramics
원산지
P. R. China
생산 능력
7000 Ton/ Year

제품 설명

제품 설명

99.7% Al2O3 알루미늄 기질은 고순도 재질이자 크기가 큰 새 재질로서, 물리적 특성이 뛰어나고 화학적 특성이 안정적이어서 다른 재료에 비해 가격이 저렴합니다. 고순도 알루미늄 은 항상 세계 최고의 연구 및 고급 세라믹 및 미세 세라믹 공장에서 계속 발전합니다. Farcera 99.7% Alumina 세라믹 시리즈 제품은 주로 CMP 공정의 연삭 패널로 반전도체 산업에서 사용되고, LCD 산업에서 사용되는 대형 알루미늄 세라믹 기질 및 세라믹 패널로 사용되는 리소그래피 방식을 사용합니다.

여기에서는 반도체 산업의 CMP 공정에 사용되는 Chemshun 고순도 99.7% Alumina 웨이퍼/사파이어 연마판을 소개합니다.

적용 분야:

반전도성, 다이아몬드 폴리싱 등에 사용되는 알루미늄 세라믹 웨이퍼 광택 및 사파이어 랩핑 디스크

프로세스: CMP 화학 기계식 폴리싱, 기계식 폴리싱, 정밀 폴리싱 등 모든 유형의 연마 및 마무리 프로세스


특징:

 고순도 및 화학적 내구성
높은 기계적 강도 및 경도

내부식성이 높습니다
고전압 저항
  최고 1700ºC의 높은 온도 저항성
극도로 내마모성 성능
뛰어난 절연 성능
모든 유형의 사이즈 180,360, 450, 600mm 등

 

상세 사진

High Purity 99.7% Alumina Ceramic Wafer Polishing Plate
High Purity 99.7% Alumina Ceramic Wafer Polishing Plate

제품 매개변수
제품 이름 99.7 고순도 알루미늄 세라믹 연마 랩핑 디스크
재질 99.7% 알루미늄
보통 크기 D180, 360, 450, 600mm, 사용자 지정 크기 허용.
색상 아이보리
응용 프로그램 반도체 산업에서 웨이퍼 및 사파이어 CMP 프로세스
최소 주문 1인치
 
    단위 99.7 알루미늄 세라믹
일반 속성 Al2O3 콘텐츠 WT% 99.7-99.9
밀도 GM/cc 3.94-3.97
색상 - 아이보리
물 흡수 % 0
기계적 속성 경막강도 (MOR) 20 °C MPa(p60 10^3) 440-550
탄성계수 20ºC GPA(60년대 10^6) 375
비커 경도 GPA(kg/mm2) R45N >= 17
굽힘 강도 GPA 390
인장 강도 25ºC MPa(p60 10^3) 248개
골절 인성(K I c) MPa * m^1 4-5
열 속성 열 전도율(20ºC) W/MK 30
열팽창 계수(25-1000ºC) 10^-6/ºC 1개 7.6
열 충격 저항 ºC 200
최대 사용 온도 ºC 1700
전기 관련 문제 유전체 강도 (1MHz) AC-kV/mm(AC v/mil) 8.7
유전체 상수(1MHz) 25ºC 9.7
볼륨 저항입니다 Ohm-cm(25ºC) 10^14
Ohm-cm(500ºC) 2x10^12
Ohm-cm(1000ºC) 2x10^7

사용자 지정 주문을 수락합니다.
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