| CAS 번호: | 75-73-0 |
|---|---|
| 공식: | CF4 |
| EINECS: | 75-73-0 |
비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체
감사를 받은 공급업체 독립적인 제3자 검사 기관의 감사를 받음
탄소 사플루오르리데는 일반적인 조건에서 비교적 불활성, 산소 디스플레이서, 다양한 웨이퍼 에칭 공정에도 사용되는 초저온 냉매입니다. CF4는 현재 마이크로일렉트로닉스 업계에서 가장 널리 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화 실리콘, 인산염료 유리 및 텅스텐 같은 박막 물질을 에칭하거나 전자 장치와 태양 전지 표면 크리닝에 널리 사용될 수 있습니다. 또한 레이저 기술, 가스상 절연, 저온 냉동, 누출 감지제, 우주로켓을 제어하는 태도, 인쇄 회로 생산에서 오염제거제를 생산하는 데에도 널리 사용됩니다.
사불화 탄소의 화학적 안정성으로 인해 금속 용해 및 플라스틱 산업에서 사불화 탄소를 사용할 수 있습니다
사양:
| 사양 | 회사 표준 |
| CF4 | 99.999% 이상 |
| O2+Ar | ≤ 1ppm |
| N2 | ≤ 2ppm |
| H2 | ≤ 0.3ppm |
| 있습니다 | ≤ 0.3ppm |
| CO2 | ≤ 0.3ppm |
| SF6 | ≤ 0.3ppm |
| THC | ≤ 0.3ppm |
| OFC | ≤ 1ppm |
| 습기 | ≤ 1ppm |
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