• 물리적 증기 디포지션 티타늄 니티라이드 스퍼터링 타겟
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물리적 증기 디포지션 티타늄 니티라이드 스퍼터링 타겟

Type: Ceramic Target
Shape: Round
Certification: TUV, ISO, CE
재질: 질화 티타늄
순도: 99.5%
크기: 사용자 지정

공급 업체에 문의

다이아몬드 회원 이후 2018

비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체

제조사/공장

기본 정보

모델 번호.
XK-TiN
MOQ
PC 1대
무료 샘플
수락
응용 프로그램
유리/금속/플라스틱/세라믹 코팅
포장
나무 케이스
인증서
각 대상에 대해 제공합니다
교통
익스프레스
배달
5-10일
운송 패키지
Vacuum Sealed
사양
customized
등록상표
no
원산지
China
세관코드
8486909900
생산 능력
1000 PCS/Year

제품 설명

              박막 코팅 재료 티타늄 니트라이드 퍼터링 타겟  

우리 공장은 고품질 Al2O3, SiO2, Si3N4, SiC, Nb2Ox, TiOx, ITO, 아조 스퍼터링 타겟 및 기타 여러 화합물 소재 세라믹 스퍼터링 표적은 매우 손상되기 때문에 열 전도성이 매우 약하므로 일반적으로 서비스 시간을 연장하기 위해 인듐 또는 엘라스토머로 구리 지지판에 접착됩니다.

사이닝 기술은 세라믹 퍼터링 타겟을 만드는 데 사용되며, 모양은 둥글고 직사각형일 수 있습니다. 원형 타겟의 경우 직경은 1"~14"이고, 두께는 3mm~6.35mm이며, 특수 크기를 사용자 정의할 수 있습니다. 직사각형 대상의 경우 크기에 따라 모놀리식 또는 여러 타일 구조가 제공됩니다.

  
제품:  양철이 튀는 타겟
순도:  99.5%
크기:  사용자 지정
모양:  평면
기술:  분말 금속 공학
포장:  Vacumm 밀폐형, 나무 케이스
   Physical Vapor Deposition Titanium Nitride Sputtering TargetPhysical Vapor Deposition Titanium Nitride Sputtering Target

피처

화학적 구성: 주석

사용 가능한 순도: 2N5

생산 기술: 분말 금속 공학

모양:평면 대상

사용 가능한 크기: 요구 사항에 따라 원형 타겟, 직경 ≤ 14", 직사각형 타겟

이 재료에는 Indium 본딩을 사용하는 것이 좋습니다

장점: 균일한 색상, 매끄러운 표면, 균열 없음, 치핑 없음, 이물질 없음 및 오염 물질.

회사 프로필:

2014년 이후

고순도 스퍼터링 타겟 전문

중국에서 퍼터링 소재의 선두 제조업체

ISO9001:2008 및 SGS와 같은 세계 인증서를 인증받았습니다.

박막 재료에 대한 R&D, 제조 및 판매 종합

유럽, 동남아시아, 남미 및 기타 지역의 15개국 이상에 수출
Physical Vapor Deposition Titanium Nitride Sputtering TargetPhysical Vapor Deposition Titanium Nitride Sputtering Target

 우리의 제품    
Physical Vapor Deposition Titanium Nitride Sputtering Target            
  
 우리의 장점

제조 및 수출 분야에서 1년 이상 축적된 경험

2 엄격한 QC 시스템 완료

3, 판매 후 완벽한 시스템
Physical Vapor Deposition Titanium Nitride Sputtering Target
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