마그네론 코팅용 니켈 플레이트 스퍼터링 타겟

• 유형: 금속 표적
• 모양: 일주
• 인증: TUV, ISO, CE
• 순도: 99.95% - 99.995%
• 재질: 니켈
• 크기: 사용자 지정
• 모델 번호.: XK-Ni
• 응용 프로그램: 유리/금속/플라스틱/세라믹 코팅
• MOQ: PC 1대
• 무료 샘플: 수락
• 포장: 나무 케이스
• 인증서: 각 대상에 대해 제공합니다
• 교통: 익스프레스
• 배달: 5-10일
• 운송 패키지: 나무 케이스
• 사양: any size
• 원산지: China
• 세관코드: 8486909900
• 생산 능력: 1000 PCS/Year

제품 설명

니켈/니켈  스퍼터링 타겟 특징:

화학 성분: 순수 니켈

사용 가능한 순도: 3N5-4N5

생산 기술: EB 용해

모양: 평면 대상, 회전 대상

평균 입자 크기: < 100um  

니켈 스퍼터링 타겟은 용융 기술로 생산되며 , 적외선 검출기와 자기 데이터 저장 분야에 주로 사용됩니다. 고순도 니켈은 일반적으로 반도체 분야에 적용됩니다.  최대 5N 순도, 균일한 입자 크기, 낮은 가스 함량을 갖춘 최종 사용자는 PVD 공정 중 고순도 및 균질 박막 코팅뿐만 아니라 일정한 침식률을 얻을 수 있습니다.

회사 프로필:

2014년 이후

고순도 스퍼터링 타겟 전문

중국에서 퍼터링 소재의 선두 제조업체

ISO9001:2008 및 SGS와 같은 세계 인증서를 인증받았습니다.

박막 재료에 대한 R&D, 제조 및 판매 종합

유럽, 동남아시아, 남미 및 기타 지역의 15개국 이상에 수출

우리의 제품    

* 금속 타겟: W, Mo, Ta, Nb, Cu, V, Ni, Ti, Fe, Al, ZR, CO, AU, Ag, Pt 등

* Alloy Target: NiFe, NiCr, NIV, CuNi, TiAl, CoCr,  코페이, WTI, 코타즈르, 쿠잉가, 즈뉴, 쿠잔, 등

* 세라믹 타겟: TiO2, Al2O3, Ta2O5, ZrO2, SiC, SiO, SiO2, ITO, GZO, azo, WS2, MoS2, Ga2O3, HfO2 등

* 증발 물질: 극저온, 포갑, 알갱이, 조각 등

* 지지판: Cu, Mo, SS 등

*접합 서비스: 인디엄, 엘라스토머     
                    
 우리의 장점

제조 및 수출 분야에서 1년 이상 축적된 경험

2 엄격한 QC 시스템 완료

3, 판매 후 완벽한 시스템                           


포장 및 배송
 

포장 세부 정보:	내부: 산화 방지를 위해 건조제와 진공 밀폐 외부 : 운송 중 손상을 방지하기 위한 나무 케이스
배송 세부 정보:	3-15일 이내 DHL, FedEx, UPS 도어투도어 서비스, 중국에서 귀하의 국가로 5-7일.

우리의 인증서