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Hot Sale 최고 등급 고순도 99.995% 아연 타겟 PVD 필름 코팅에 대한 Zn 아연 스퍼터링 타겟 크기를 사용자 지정합니다
| 이름 | 금속 아연 스퍼터링 타겟 |
| 순도 | 99.9% - 99.995% |
| 크기 | D3x3mm, D6x6mm, D50.8x3mm, D6x6mm, 2인치, 3인치, 요청 시 |
| 비등점 | 907 |
| 밀도 | 7.13g/cm³ |
| 녹는점 | 420 |
| 모양 | 평면 대상, 회전 대상. 펠릿, 피스, |
| MOQ | 1PCS; 1kg |
| 응용 프로그램 | 실험 물질, 증발 물질, PVD 필름 코팅 등 |
아연 스퍼터링 표적은 원료와 동일한 특성을 갖습니다. 아연은 Zn 기호와 원자번호 30이 있는 화학 성분입니다. 실온에서는 청색의 은백색 금속입니다. 100~150이 되면 연약하고 200이 넘으면 다시 건조됩니다. 공기 중의 정상 온도에서 활성 화학적 성질을 가지고 있습니다. 표면에 얇고 조밀한 기본 아연 탄산염 막이 있어 추가 산화를 방지하기 위해 온도가 225 이상이면 심하게 산화됩니다.
금속 아연은 우수한 합금으로 만들 수 있으며, 주로 아연 도금 합금, 아연 함유 합금, 자동차, 건설, 가전 제품, 선박, 경공업 분야에서 널리 사용되는 산화아연 등의 형태로 제작됩니다. 기계, 배터리 및 기타 산업 아연 도금 은 표면 처리 기술로 금속, 합금 또는 기타 재료 표면에 아연이 코팅되어 있어 아름다움과 녹을 방지합니다.
아연거림이 발생하는 표적의 응용
아연 스퍼터링 타겟 은 용융 기술로 생산되며, 일반적으로 LED 및 OLED 제품의 발광 필름이나 OLED 제품의 투명 도체 필름, 얇은 필름 반반사 필름인 ZnO 박막 증착에 사용됩니다. 최대 4N 순도와 특수 소둔 열처리, 균일한 입자 크기, 낮은 가스 함량을 통해 PVD 공정 중 고순도 및 균질 박막 코팅뿐만 아니라 지속적인 침식률을 얻을 수 있습니다.
아연 타겟 준비 프로세스
준비 - 용해 - 화학 분석 - 단조 - 압연 -소둔 열처리-금속합금 검사-기계 가공-치수 검사 청소 - 최종 검사 - 포장
기타 합금 형태의 아연 스퍼터링 타겟
아연 알루미늄, 아연 주석, 아연 구리 합금 스퍼터링 타겟 등
응용 프로그램: 아연스퍼터링 타겟
기타 관련 스퍼터링 타겟
| 금속 타겟 | NI, Al, Cu, V, Co, W, Mo, Ta, Nb, CR, Ti, ZR, HF, mg, Fe, Zn, Pb, Sn, BI, GA, GE, In, Si, C, B, TE 및 희토류 타겟 |
| 합금 목표 | NI, Fe, Co, Cu, Al alloy. 및 특수 합금 |
| 증발 물질 | NI, Al, Cu, V, Co, W, Mo, Ta, Nb, CR, Ti, ZR, HF, mg, Fe, Zn, Pb, Sn, BI, GA, GE, In, Si, C, B, TE 등 |
| 세라믹 소재 | 산화물 세라믹, 화합물 세라믹 타겟 |
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