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공장 가격 99.95% 순수 탄탈럼 스퍼터링 타겟 메탈 타탄탈룸 증발 물질의 평면 표적
| 이름 | 메탈 탄탈럼 타마그네론 퍼터링 타겟 |
| 순도 | 99.9%-99.99% |
| 크기 | 372x74x6mm, D3x3mm, D6x6mm, D50.8x3mm, 2인치, 3인치, 요청 시 |
| 비등점 | 5497 |
| 밀도 | 16.654g/cm³ |
| 녹는점 | 2996.0 |
| 모양 | 평면 대상, 회전 대상, 아크 음극 |
| MOQ | 1PCS |
| 응용 프로그램 | 증발 물질, PVD 필름 코팅 등 |
탄탈염으로 주로 발생하며 니오밥과 관련된 금속 성분은 탄탈염입니다. 탄탈럼은 경도가 적당하고 연성 또한 우수하며 얇은 철제 포일로 그릴 수 있습니다. 열팽창 계수는 작습니다. 탄탈룸은 우수한 화학 성질을 가지고 있으며 부식에 강한 저항력을 가지고 있습니다. 탄탈룸은 부식에 강한 내성이 있지만, 부식에 대한 내성은 표면에 탄탈룸 펜톡시드(TA2O5) 보호 필름이 형성되었기 때문입니다. 춥거나 더운 환경에서는 염산, 농축 질산 또는 "아쿠아 레시아"와 반응하지 않습니다. 증발기를 만드는 데 사용할 수 있습니다. 또한 전자 튜브, 정류기 및 전기분해 콘덴서의 전극으로도 사용할 수 있습니다. 손상된 조직을 파기 위해 시트 또는 실을 만드는 데 의학적으로 사용됩니다.
커패시터는 탄탈럼의 가장 중요한 용도입니다.
탄탈룸은 전자 방출 튜브와 고출력 전자 튜브 부품을 만드는 데에도 사용됩니다. 탄탈룸 부식 방지 장비는 강한 산, 브롬, 암모니아 및 기타 화학 산업의 생산에 사용됩니다.
탄탈룸은 항공기 엔진의 부산함에 적합한 구조 소재로 사용할 수 있습니다. 탄탈룸 텅스텐, 탄탈룸 텅스텐 하프늄 및 탄탈룸 하프늄 합금은 로켓, 미사일 및 제트 엔진의 내열성 및 고강도 재료로 사용되고 제어 및 조정 장비의 구성요소로 사용됩니다.
탄탈룸은 쉽게 가공하고 형태를 다듬을 수 있습니다. 고온 진공 용광로에서 보조 액세서리, 히트 실드, 히터 및 방열판으로 사용됩니다.
탄탈룸은 정형외과 및 수술용 재료로 사용할 수 있습니다.
탄탈룸 카바이드 시멘트형 카바이드.
탄탈륨 붕소, 살정제, 질산염 및 그 합금은 원자에너지 산업에서 열 방출 원소와 액체 금속 클래딩 소재로 사용됩니다.
탄탈륨 산화물은 고급 광학경과 촉매제 제조에 사용됩니다.
응용 프로그램: Tantalum Sputtering Targets
기타 관련 스퍼터링 타겟
| 금속 타겟 | NI, Al, Cu, V, Co, W, Mo, Ta, Nb, CR, Ti, ZR, HF, mg, Fe, Zn, Pb, Sn, BI, GA, GE, In, Si, C, B, TE 및 희토류 타겟 |
| 합금 목표 | NI, Fe, Co, Cu, Al alloy. 및 특수 합금 |
| 증발 물질 | NI, Al, Cu, V, Co, W, Mo, Ta, Nb, CR, Ti, ZR, HF, mg, Fe, Zn, Pb, Sn, BI, GA, GE, In, Si, C, B, TE 등 |
| 세라믹 소재 | 산화물 세라믹, 화합물 세라믹 타겟 |
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