• 마그네트론 스퍼터링 전용 크롬 스퍼터링 타겟
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마그네트론 스퍼터링 전용 크롬 스퍼터링 타겟

유형: 금속 표적
모양: 일주
인증: TUV, ISO, CE
재질: 크롬 Cr
순도: 2n5, 2n8, 3n, 3n5
MOQ: 1개

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제조사/공장

기본 정보

모델 번호.
XK-Cr
응용 프로그램
장식
무료 샘플
사용 가능
포장
진공 팩
인증서
COA, CoC
배달
10-20일
교통
항공으로, 바다
원산지 증명서
사용 가능
운송 패키지
Vacuum Sealed
사양
customized
등록상표
no
원산지
중국
세관코드
848690
생산 능력
2000PCS/Month

제품 설명

 크롬 스퍼터링 타겟의 특징

화학적 구성: 순수 CR
사용 가능한 순도: 2N5, 2N8, 3N, 3N5
프로덕션 기술: HIP
모양: 평면 대상, 회전 대상
평균 입자 크기: < 100um

Chromium Sputtering Target for Magnetron Sputtering

 크롬 스퍼터링 타겟 적용

크롬 스퍼터링 타겟은 HIP 기술로 생산되며   , 일반적으로 금속 컬러 필름을 얻기 위해 장식 코팅에 사용됩니다.  최대 3N5 순도, 균일한 입자 크기, 불순물 함량이 낮아  최종 사용자는  오랜 시간 페이딩 없이 양호한 경도, 높은 밝기, 부식 및 산화 방지 색상을 얻을 수 있습니다. 당사는  시계, 위생 용품, 자동차 거울 등을 제조하는 업체에게 크로뮴 스퍼터링 타겟, 크롬 아크 음극 다이오드 등을 공급해 왔으며, 이는 다양한 마그네트론 스퍼터링 기계 및 이온 도금 기계에 적합합니다.

Chromium Sputtering Target for Magnetron Sputtering
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