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감사를 받은 공급업체 | 제품: | NiCr, 다른 컴포지션을 사용자 지정할 수 있습니다 |
| 순도: | 99.9%-99.95% |
| 크기: | 사용자 지정 |
| 모양: | 평면 및 로터리 |
| 기술: | 진공 용융 |
| 적용 분야: | 장벽 또는 접착층 부착을 위한 반도체 분야 |
| 포장: | Vacumm 밀폐형, 나무 케이스 |
니켈 크롬 스퍼터링 타깃은 용해 기술로 생산되며 NiCr 박막 증착에 사용됩니다. 이 소재는 저항력이 비교적 크고 산화에 대한 저항성이 더 높고 온도 저항계수가 낮기 때문에 NiCr 박막 은 IC 응용분야에 사용되는 박막 저항기를 만드는 데 널리 사용됩니다. 니켈 크롬 스퍼터링 표적도 로우-E 글라스 코팅에 적용할 수 있습니다. 최대 3N5 순도, 균일한 입자 크기, 낮은 산소 함량을 갖춘 최종 사용자는 PVD 공정 중 고순도 및 균질 박막 코팅뿐만 아니라 지속적인 침식률을 얻을 수 있습니다.
피처
화학적 성질: NiCr93/7wt%, NiCr90/10wt%, NiCr80/20wt%, NiCr70/30wt%, NiCr60/40wt%, NiCr40/60wt%, NiCr50/50wt%
체중 분리: +/- 0.5wt%
사용 가능한 순도: 2N8, 3N, 3N5
생산 기술: 용해
모양:평면 대상
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회사 프로필:
2014년 이후
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