고순도 텅스텐 타겟, 고순도 텅스텐-티타늄 합금 타겟, 텅스텐-실리콘 복합 타겟은 일반적으로 자그란 스퍼터링 방식으로 적용되어 다양한 복합 고성능 박막 재료를 생성합니다. 고순도 텅스텐 또는 초순수 텅스텐(5N 또는 6N)은 전자 이동에 대한 저항이 높고, 높은 온도 안정성, 안정적인 규조제 형성 능력이 있기 때문에 전자 산업에서 게이트, 연결, 전환 및 장벽 금속처럼 얇은 필름으로 사용되는 경우가 많습니다.
초고순도 텅스텐 및 그 규제는 또한 초대형 집적 회로에 저항층, 확산 장벽 등으로 사용되고 금속 산화물 트랜지스터의 게이트 재료 및 연결 물질로도 사용됩니다.
텅스텐-티타늄 합금 스퍼터링 표적은 박막 태양열의 금속 층을 만들기 위해 종종 사용됩니다.
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