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[제품 설명]
텅스텐 플레이트, 텅스텐 시트 및 텅스텐 표적은 보통 분말 금속공학에 의해 옥상으로 생성된 다음 고온에서 가열 및 단조 방식으로 제작됩니다. 처리 기술 및 표면 처리에 따라 회색-검은색 또는 밝은 은색으로 나타납니다. 60% 이상의 변형 양으로 굴린 후 텅스텐 플레이트의 밀도는 기본적으로 이론상 텅스텐에 가깝습니다. 따라서 고강도, 균일한 내부 구조, 탁월한 고온 크리프 저항성을 갖추고 있습니다.
[애플리케이션]
이온 이식 부품을 처리하고, 전기광원과 전기 진공 부품을 제조하며, 사파이어 크리스털 성장로에 커버 플레이트를 만들고, 진공 용광로에 가열 벨트와 커넥터를 만들고, 플라즈마 코팅, 증발 텅스텐 보트 및 기타 제품을 위한 스퍼터링 타겟을 생성할 수 있습니다
[치수]
두께(0.05 ~ 50mm) × 폭(50 ~ 600mm) × 길이(100 ~ 2000mm)
[화학 사양]
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브랜드
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주요 내용 %, 가스 요소 제외
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불순물(ppm)
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WP1
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W ≥ 99.95%
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≤ 500
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HWP1
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W ≥ 99.99%
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≤ 100
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HWP2
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W ≥ 99.999%
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≤ 10
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