• 박막 증착 시 99.95% IR 이리듐 스퍼터링 타겟
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박막 증착 시 99.95% IR 이리듐 스퍼터링 타겟

Classification: Precious Metal
운송 패키지: Wooden Box Package
사양: 99.95%
등록상표: rheniumet
원산지: China

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골드 멤버 이후 2022

비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체

제조사/공장
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개요

기본 정보

세관코드
4301962010
생산 능력
10000piece/Year

제품 설명

이리듐 스퍼터링 표적은 이리듐 금속과 동일한 특성을 갖습니다. 이리듐은 녹는점이 2466°C에 달하고, 화학적 특성이 안정적이어서 대기 중에 1600°C 이상의 양호한 기계적 특성을 유지할 수 있으며, 고온에서 산화에 대한 저항이 우수하며, 강산, 강염기, 용해 시약 및 고온 실리산염의 부식을 견딜 수 있습니다. 이 금속은 부식 방지 금속이며 모든 산 공격에 견딜 수 있습니다. 일부 녹은 염 및 할로겐만 고체 이리듐을 부식하지만 미세한 으깬 이리듐 먼지는 반응성 및 인화성이 더 높습니다.
 
이름: 이리듐  CAS:7439-88-5
 기호: IR  열 전도율: 147W/(m·K)
 원자 무게: 192.22  밀도: 22.56g/cm3
 순도: 3N5  저항률: 47.1nΩ·m(20°C에서)
 
사양  상태    순도 크기
고순도 이리듐 대상  3N5 1-10인치, 일반 크기 조절 가능

 

이리듐 스퍼터링 대상 제조 공정
정제(3중 전기분해 공정) - 용해 및 주조 (저항로-반연속 캐스팅) - 곡물 정제(열기계 처리) 청소 - 최종 포장 - 진공 청소

이리듐 스퍼터링 표적의 적용
이리듐 스퍼터링 표적은 박막 증착에 사용되며 연료 전지, 장식, 반도체, 디스플레이, LED 및 태양광(PV) 장비, 유리 코팅 등에 주로 사용됩니다
 

기타 이리듐 응용분야:
특수 합금에 대한 경화제.
- 콤파스와 펜을 지지하는 데 사용되는 이리듐 합금.
이리듐 도가니.
보호 필름 또는 과도한 전기 접촉으로 사용되는 이리듐 필름
- 연료 전지
 

국소 화학 분석  

불순물  성분(%)
PT RU 우측 PD AU AG Cu FE NI
0.02 0.02 0.02 0.01 0.01 0.005 0.005 0.005 0.005
PB MN mg SN Zn 있습니다  
0.005 0.005 0.005 0.005 0.005 0.005 0.005 0.005  

회사 프로필

 
99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition

우리의 서비스

 

99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition

FAQ

 

Q: 거래하는 회사입니까, 아니면 제조사입니까?
A: 우리는 공장입니다.

Q: 배송 시간은 얼마나 됩니까?
A: 일반적으로 재화 재고가 있는 경우는 3-7일입니다. 또는 재화 재고가 없는 경우에는 15-20일입니다
수량.

Q: 샘플을 제공하십니까? 무료 또는 추가 입니까?
A: 예, 샘플을 제공할 수 있지만 우리 제품이 높은 값이기 때문에 샘플과 운송 비용을 지불해야 합니다.

Q: 지불 조건은 무엇입니까?
A: 1000달러 미만 결제, 100% 사전. 지불 >= 1000달러, 30% T/T, 선급 전 잔액.
다른 질문이 있는 경우 아래 연락처로 문의해 주십시오.

 

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