비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체
고순도 텅스텐 타겟, 고순도 텅스텐-티타늄 합금 타겟, 텅스텐-실리콘 복합 타겟은 일반적으로 자그란 스퍼터링 방식으로 적용되어 다양한 복합 고성능 박막 재료를 생성합니다. 고순도 텅스텐 또는 초순수 텅스텐(5N 또는 6N)은 전자 이동에 대한 저항이 높고, 높은 온도 안정성, 안정적인 규조제 형성 능력이 있기 때문에 전자 산업에서 게이트, 연결, 전환 및 장벽 금속처럼 얇은 필름으로 사용되는 경우가 많습니다. 초고순도 텅스텐 및 그 규제는 또한 초대형 집적 회로에 저항층, 확산 장벽 등으로 사용되고 금속 산화물 트랜지스터의 게이트 재료 및 연결 물질로도 사용됩니다. 텅스텐-티타늄 합금 스퍼터링 표적은 박막 태양열의 금속 층을 만들기 위해 종종 사용됩니다.
사양:
|
이름 |
분자 분유 | 사양 |
크기 |
상대 밀도 | 입자 크기 | 결함률 | |
| 텅스텐 타겟 |
W |
4N(99.99%) |
인치 |
mm |
99% 이상 |
50µm |
0 |
|
5N(99.999%) |
D(6,8,10,12) H(0.25,0.5,0.75) |
직경 150~350 두께 6~25 |
|||||
| 텅스텐 티타늄 타겟 |
WTi10 WTi20 |
4N(99.99%) |
99% 이상 |
50µm |
0 |
||
|
4N5(99.995%) |
|||||||
화학 성분
|
사양 등급 화학적 지수 |
W/(W+Ti) ≥ 99.99% |
W/(W+Ti) ≥ 99.995% |
W ≥ 99.999% |
|||||||||
| 완전한 미량 불순물 |
100 ppm 초과 |
50ppm 이상 |
10ppm 초과 |
|||||||||
|
불순물 지수(ppm) |
최대 |
일반적인 가치 | 최대 | 일반적인 가치 | 최대 | 일반적인 가치 | ||||||
|
방사성 요소 |
U |
- |
0.2 |
0.1 |
0.05 |
0.0008 |
0.0005 |
|||||
|
TH |
- |
0.2 |
0.1 |
0.05 |
0.0008 |
0.0005 |
||||||
|
알칼리 금속 성분 |
리 |
1 |
0.05 |
0.02 |
0.01 |
0.01 |
0.003 |
|||||
|
NA |
5 |
1 |
0.5 |
0.2 |
0.1 |
0.05 |
||||||
|
K |
5 |
1 |
0.1 |
0.05 |
0.05 |
0.03 |
||||||
|
Mo, Re |
10 |
5 |
10 |
5 |
1 |
0.5 |
||||||
|
FE, CR |
10 |
5 |
5 |
3 |
0.5 |
0.3 |
||||||
|
Ca, Si, Cu, Ni, Al, Zn, Sn, Mn, Co, Hg, V |
2 |
1 |
0.5 |
0.3 |
0.2 |
0.2 |
||||||
|
P, AS, Se |
2 |
1 |
0.5 |
0.2 |
0.2 |
0.2 |
||||||
|
B, Pb, sb, BE, Ba, BI, CD, GE, Nb, Pt, mg, ZR, AU, IN, GA, Ag |
1 |
0.5 |
0.5 |
0.1 |
0.1 |
0.1 |
||||||
| 다른 모든 개별 요소 |
1 |
0.5 |
0.5 |
0.1 |
0.1 |
0.1 |
||||||
|
가스 분석 (표시, ppm) |
O |
C |
N |
H |
S |
|||||||
|
30 |
20 |
20 |
20 |
10 |
||||||||
사용 목적에 따라 고순도 텅스텐 대상과 텅스텐-티타늄 대상의 불순물 함량에 대한 요구 사항은 서로 다릅니다. 일반적으로 화학물질의 순도는 99.99%~99.999%여야 합니다. 또한 사용자 요구 사항에 따라 애플리케이션에 적합한 다른 사양을 사용자 지정할 수도 있습니다. 
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