| 커스터마이징: | 사용 가능 |
|---|---|
| 판매 후 서비스: | 1년 |
| 보증: | 1년 |
비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체
감사를 받은 공급업체 독립적인 제3자 검사 기관의 감사를 받음
리소그래피 장비용 광학 유리
리소그래피의 광학 부품은 주로 노출, 조명, 에너지 감지, 광경로 시스템 및 기타 장면에서 사용됩니다. 리소그래피 장비의 노출 시스템에는 조명 시스템과 투영 목적 렌즈가 포함되어 있습니다. (1) 고정밀: 이미지를 정확하게 표현하기 위해서는 수차를 엄격하게 통제하고, 리소그래피 렌즈의 평탄도와 마감 요구 사항이 높은 값을 요구합니다. (2) 높은 값을 제공합니다. 고정밀 광학 렌즈를 생산하려면 고정밀 연삭 기계와 미세 렌즈 연마제가 필요합니다.
재질 크기
렌즈는 광학 유리 4786 A/B 측면 내경 15.6cm, 외경 18.9cm입니다. 측면 두께는 2.6cm이며 리소그래피 기계의 정밀 부분에 적용됩니다.
적용 분야
리소그래피 기계의 핵심 구성 요소로서 주로 반도체, 바이오메디신, 포토닉스, 나노 장치에 사용됩니다
작동 원리
주로 광학 프로젝션 기술을 기반으로 합니다. 특수 설계된 렌즈 시스템을 통해 광원을 높은 초점에 배치하여 실리콘 웨이퍼 표면에 빛을 투사합니다. 실리콘 웨이퍼에는 포토레지스트가 코팅되어 있으며, 포토레지스트의 노출 및 개발 과정이 원하는 회로 패턴을 형성합니다. 고해상도 및 하이 패턴 전송을 달성하기 위해 리소그래피 장비는 많은 주요 기술을 사용합니다. 렌즈 시스템은 패턴을 형성하기 위해 실리콘 웨이퍼에 빛을 초점을 맞추는 데 사용되는 여러 개의 렌즈로 구성됩니다. 고해상도 렌즈 시스템은 더 작은 수차, 더 큰 시야와 더 높은 광학적 투과율을 가져야 합니다. 최근 몇 년 동안 나노기술이 개발되어 전송율 리소그래피는 점점 더 복잡한 렌즈 시스템을 사용하는 노출 리소그래피 기술로 대체되었습니다.
