고품질 사플루오르화 탄소, 테트라플루오르메탄, R14, 냉매 CF4 가스

• CAS No.: 75-73-0
• 공식: CF4
• EINECS: 200-896-5
• 성분: 산업 순수한 공기
• 등급 표준: 산업 학년
• 화학 재산: 비 가연성 가스
• 모델 번호.: 99.9%
• UN 번호: 1982
• 배송 이름: 테트라플루오르메탄
• 위험 등급: 2.2
• 라벨: 비가연성 가스
• 일반 설명: 무색/비인화성 가스
• mol 파일: 75-73-0.Mol
• 운송 패키지: Cylinder
• 사양: 1.603g/cm3(-128º C) 27.330(cm· mol)
• 등록상표: RM/OEM
• 원산지: Qingdao, China
• 세관코드: 2826199090
• 생산 능력: 1000 PCS Per Month

제품 설명

SF4 적용:
테트라플루오르화 탄소는 현재 마이크로일렉트로닉스 산업에서 가장 많은 양의 플라즈마 에칭 가스입니다. 고순도 가스와 고순도 사플루오르화 탄소의 혼합물입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화 실리콘, 인스포러스한 실리콘 유리 및 텅스텐 필름 물질의 에칭에 널리 사용될 수 있습니다.
실리콘 및 이산화규소 시스템의 경우 CF4-H2의 반응 이온 에칭을 사용할 때 두 가스의 비율을 조정하여 45:1의 선택성을 얻을 수 있습니다. 이는 다결정 실리콘 게이트에서 이산화규소를 에칭하는 데 매우 유용합니다.

전자 장치의 표면 청소, 태양전지 생산, 레이저 기술, 가스상 절연, 초저온 냉동, 누출 테스트 에이전트, 인쇄 회로 생산에서 우주 로켓 자세와 세제의 통제.

 CF4 가스의 COA

있습니다	인덱스
CF4, %(V/V) 이상	99.999	99.995	99.99
N2, 10-6(V/V) ≤	4	20	40
O2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO2, 10 - 6 (V/V) ≤	1	5	10
CO, 10 - 6 (V/V) ≤	0.3	0.5	1
SF6, 10-6(V/V) ≤	1	1	5
H2O, 10 - 6(V/V) ≤	1	5	10
HF, 10-6(V/V) ≤	0.1	0.3	0.3
TFC(CH2F2, CHF3, C2F3, C3F8), 10-6(V/V) ≤	1	10	30
총 불순물, ppm(V/V) 이하	10	50	100

CF4 사양

파라미터 중요 분석	단위	회사 사양	분석 결과	분석 방법
테트라플루오르메탄(CF4)	%(v/v)	최소 99.999%	99.999% 이상	G.C
산소(O2)	V. ppm	1.0 미만	0.2 미만	G.C
질소(N2)	V. ppm	1.0 미만	0.6 미만	G.C
일산화탄소(CO)	V. ppm	0.5 미만	0.2 미만	G.C
이산화탄소(CO2)	V. ppm	0.5 미만	0.2 미만	G.C
육불화황(SF6)	V. ppm	0.2 미만	0.1 미만	G.C
트리플루오르메탄(CHF3)	V. ppm	0.5 미만	0.1 미만	G.C
기타 할라카본(OFC) *	V. ppm	1.0 미만	0.7 미만	G.C
총 탄화수소(THC) *	V. ppm	0.5 미만	0.1 미만	G.C
수분(H2O)	V. ppm	0.5 미만	0.2 미만	수분 분석기
산도(HF)	V. ppm	0.1 미만	0.08미만	산도 분석기
불순물의 총 내용	V. ppm	≤ 10.0	10.0 미만	G.C
파티칼레(>0.1μm)	PCS/L	10.0 미만	1.0 미만	ICP-MS

우리 소개:
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