Type: | Stainless Steel Heating Equipment |
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Structure: | Vertical Type |
최고 온도: | 2200 |
작동 온도: | 1900 |
가열 소자: | 텅스텐 |
챔버 크기: | Dia200 * 200 |
비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체
HIQ 텅스텐 카바이드 소결 용광로란 배치형 유도 가열로로서 주로 경합금과 다양한 크기의 텅스텐 카바이드 파우더, 탄화 분말, 티타늄, 바나듐 카바이드 금속 분말 및 금속 합성 분말을 생산하는 분말 금속 금속 금속 금속 금속 가공 산업에 사용됩니다.
최고 작동 온도: 1800ºC, 2300ºC, 2500ºC
2. 용광로의 대기: 수소, 질소, 아르곤, 불활성 가스 등
3. 온도 측정: 원적외선 광학 온도 측정 범위: 섭씨 800~2400도 또는 섭씨 0~2400도. 온도 측정 정확도: 0.2~0.75%.
용광로 본체, 1-2, 1-4, 1-6의 다양한 동력 공급 장치
모델 | 서비스 지역 |
배치 |
제한 공간 |
압력 상승 속도 | 최고 온도 | 공기 압력 |
(mm) | (kg) | (PA) | (pA/h) | (°C) | (바) | |
HIQ-40 | Dia160 * 160 | 200 | 4×10-1 또는 4×10-3 | 0.65 | 2200 | 10월 6일 |
HIQ-60 | Dia200 * 200 | 300 | 4×10-1 또는 4×10-3 | 0.65 | 2200 | 10월 6일 |
HIQ-80 | Dia220 * 220 | 500 | 4×10-1 또는 4×10-3 | 0.65 | 2200 | 10월 6일 |
HIQ-150 | Dia300 * 300 | 800 | 4×10-1 또는 4×10-3 | 0.65 | 2200 | 10월 6일 |
HIQ-200 | Dia400 * 400 | 1200 | 4×10-1 또는 4×10-3 | 0.65 | 2200 | 10월 6일 |
HIQ-300 | Dia500 * 500 | 1500 | 4×10-1 또는 4×10-3 | 0.65 | 2200 | 10월 6일 |
1. 고온 용광로 본체 2500 °C는 얇고 중간 정도 거칠고 입상 물질 WC 파우더 및 복합 탄화 가열 공정과 호환됩니다.
지능형 온도 제어 시스템의 디지털 디스플레이, 자동 고정밀 온도 제어 프로세스, 주어진 가열 곡선에 따라 온도가 상승하며 총 20개의 공정 가열 곡선을 저장할 수 있습니다.
순수 냉각수 냉각 시스템, 디지털 흐름 모니터링 시스템, 용광로 본체 자동 변환을 위한 고성능 IF 접촉기를 사용하는 시스템, 포괄적인 PLC 용수, 전기, 가스 자동 제어 및 보호 시스템
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