CAS No.: | 75-73-0 |
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Formula: | CF4 |
EINECS: | 200-896-5 |
Constituent: | Industrial Pure Air |
Grade Standard: | Electronic Grade |
Chemical Property: | Non-Flammable Gas |
비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체
탄소 사플루오르리데는 일반적인 조건에서 비교적 불활성, 산소 디스플레이서, 다양한 웨이퍼 에칭 공정에도 사용되는 초저온 냉매입니다.
CF4는 현재 마이크로일렉트로닉스 업계에서 가장 널리 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화 실리콘, 인산염료 유리 및 텅스텐 같은 박막 물질을 에칭하거나 전자 장치와 태양 전지 표면 크리닝에 널리 사용될 수 있습니다. 또한 레이저 기술, 가스상 절연, 저온 냉동, 누출 감지제, 우주로켓을 제어하는 태도, 인쇄 회로 생산에서 오염제거제를 생산하는 데에도 널리 사용됩니다.
사불화 탄소의 화학적 안정성으로 인해 금속 용해 및 플라스틱 산업에서 사불화 탄소를 사용할 수 있습니다
사양:
사양 | 회사 표준 |
CF4 | 99.999% 이상 |
O2+Ar | ≤ 1ppm |
N2 | ≤ 2ppm |
H2 | ≤ 0.3ppm |
있습니다 | ≤ 0.3ppm |
CO2 | ≤ 0.3ppm |
SF6 | ≤ 0.3ppm |
THC | ≤ 0.3ppm |
OFC | ≤ 1ppm |
습기 | ≤ 1ppm |
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