비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체
감사를 받은 공급업체
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모든 종류의 Mo 플레이트 특징 및 적용 필드 다음과 같습니다
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분류
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피처
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애플리케이션 필드
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전자(이온) 빔 퍼터링 타겟, 이온 이식 장비용 예비 부품, 방열판 제조에 널리 사용됩니다 반도체, 전자 튜브 부품, MOCVD 장비, 의료 기기, 핫 존, 도가니 및 보조 원소를 위한 것입니다 사파이어 크리스털 용광로, 히터, 히트 실드, 지지 엘리먼트, 진공 및 수소 차폐형 가열로용 보트 |
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순수 Mo 플레이트가 고온에서 치료되었습니다
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고순도, 물리적 및 화학적 성질 면에서 일관된, 뛰어난 고온 변형 방지 기능
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정밀 전자세라믹 및 제조용 베이스 플레이트 제조에 적합 리어 접지 소재
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산화분산 강화 메커니즘을 사용하면 특정 플라스틱 변형이 이후 실온 아래에서 수행될 수 있습니다 높은 강도, 높은 재결정 온도 및 뛰어난 고온 때문에 높은 온도에서 치료됩니다 강도 및 개선된 재결정 브릿터짐 및 고온 변형 방지 기능 |
고온 용광로를 위한 보트 |
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란탄염 도핑한 Mo 플레이트는 높은 온도로 처리되었습니다
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산화분산 강화 효과 및 로 인해 고온 강도와 저온 변형이 탁월합니다 특정 구조 |
미세 세라믹 및 후면 접지 세라믹, 베어링 랙, 베이스 플레이트 및 높은 층을 위한 코팅을 위한 베이스 플레이트를 만드는 데 적합합니다 온도 가열로 |
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고온 강도, 낮은 재결정 온도, 탁월한 고온 크리프 내성 성능 칼륨 거품 강화 기전 |
전자 튜브, 히터, 열 등의 구성 요소와 같이 저온 크리프가 있는 제품을 제작하기에 특히 적합합니다 고온 용광로에 대한 차폐 등 |
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높은 온도로 처리된 도핑 모판
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긴 곡물 엇갈림 구조로 인한 저온 크리프 고순도
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전자용 베이스 플레이트와 같이 순도와 고온 크리프가 높은 제품을 만드는 데 적합합니다 세라믹 소결 또는 열처리, 전자 튜브의 지지 요소 등 |
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낮은 비등방성 및 우수한 굽힘 성능
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특히 긴 부분, 회전, 보강, 구부리기, 긴 부분 또는 회전하는 Mo 십자가에 적합, Mo 파트 골판, 벤딩 피스, 모보트 등 보강 또는 구부려야 합니다 |
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높은 온도에서 처리된 교차 압연 순수 Mo 플레이트
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의 동일한 성능 외에 낮은 비등방성 및 우수한 굽힘 성능 란탄툼 도핑 Mo 플레이트
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특히 강화 및 구부리기, 높은 온도 요구 사항을 가진 강화 또는 벤딩 Mo 부품 제작에 적합, 가열 구역, 조립식 부품, 고온 모보트 등 |
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Mo 플레이트의 일부 성능 지수는 다음과 같습니다
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두께(mm)
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Erichsen 값, ≥ (mm)
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0.10 ≤ T < 0.15
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3.5
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0.15 ≤ T < 0.2
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4.0
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0.2 ≤ T < 0.3
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4.5
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0.3 ≤ T < 0.4
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5.0
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0.4 ≤ T < 0.5
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5.5
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0.5 ≤ T < 0.6
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6.0
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0.5 ≤ T < 0.7
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6.2
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0.7 ≤ T < 0.8
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6.5
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0.8 ≤ T < 0.9
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6.8
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0.9 ≤ T ≤ 1.0
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7.0
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Q: 거래하는 회사입니까, 아니면 제조사입니까?
