• PVD 코팅용 고순도 99.9% ZR 지르코늄 스퍼터링 타겟
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PVD 코팅용 고순도 99.9% ZR 지르코늄 스퍼터링 타겟

Application: Industrial
수식: 지르코늄
분류: Metal Traget
등급 표준: 산업용 등급
인증: ISO
모양: Rotary,Flat,Round

공급 업체에 문의

골드 멤버 이후 2023

비즈니스 라이센스가 검증 된 공급 업체

Guangdong, 중국
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기본 정보

모델 번호.
CYT-Zr
운송 패키지
Wooden Box
사양
Customized Size
등록상표
CANYUAN
원산지
China
생산 능력
1000PCS

제품 설명


 
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
지르코니움은 은백색 전이 금속입니다.
생산 공정이 복잡하고 추출 과정이 어려워 우리는 희귀금속이라고 불렀습니다.
지르코늄 스퍼터링 표적은 박막 증착, 연료전지, 장식, 반도체, 디스플레이, LED 및 태양광(PV) 장치, 기능 코팅 및 기타 광학 정보 저장 공간 산업, 자동차 유리 및 건축용 유리 등의 유리 코팅 산업, 광 통신 및 기타 분야
크롬 대상  사양
응용 프로그램 PVD 스퍼터링 소재
재질 지르코늄
순도 3N5
크기 사용자 지정
두께 사용자 지정
모양 로터리 크롬 스퍼터링 타겟, 링 유형, 시트 유형, Plat 유형 및 튜브 유형
밀도 6.49g/cm3
녹는점 1852ºC
가공 방법 힙합

우리의 장점
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating


작동 프로세스
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating

포장 사진
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
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적용 분야:
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating

제품 연결
재질 순도
(N)
부품
(wt%)
밀도 녹는
 점

전도도
(WM-1K-1)
계수
 확장
(10-6k-1)
생산
 프로세스
3N - 2.7 660 235 23.1 제련
CR 3N5 - 7.22 1907년 94 4.9 Hip, Smelleding
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 제련
NI 3N5 - 4.5 1453 90 13 제련
TI 3N - 4.5 1668 15.2 9.4 제련
ZR 3N - 6.49 1852 0.227 - 제련
4N - 2.33 1414 150 2.6 소결 및 스프레이
AG 4N - 10.49 961.93 429 19 제련
C 4N - 2.23 3850 ± 50 151 - 힙합
천상의 3N5 요청대로 - - - - 제련
인번 4N 요청대로 - - - - 주조
크시 4N 요청대로 - - - - 스프레이
크우 4N 요청대로 16.7 3017 57 6.3 힙합
NiCr 3N 요청대로 - - - - 제련
NIV 3N 97:3 - - - - 제련
화장실 3N - 15.77 2870 110 5.5 소결 및 스프레이
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 소결 및 스프레이

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제조사/공장
주요 상품
Sputtering Target
직원 수
6