노출 노출 기계에 문의하십시오

• 사양: 170cm*130cm*180cm
• 등록상표: CRT
• 원산지: 중국
• 모델 번호.: LSCE-800

제품 설명

제품 특성    
·  해상도가       매우 정확합니다.
  광범위한    UV  웨이브렝스셀렉트입니다.
  일정한 광도  또는 일정한  전원   모드를 지원합니다.
    반도체에 널리 사용되고 있습니다.
마이크로전자, 생물 장치   및  나노기술 분야

제품  소개   
LSCE-800 접촉 노출 기계는   마스크  플레이트가     기판의 광자 층과 직접 접촉하고 노출된 수치가       마스크 플레이트의 수치와 높은 해상도 정확도를 가지고 있음을 나타냅니다. 이 장비는  간단하며  라인 폭은  800nm에 도달할 수 있습니다.      다양한 양의    포토레지스트 및 음의 포토리스티스트 모델입니다 함께 사용할 수 있습니다.             특수  크기의 기판부터       매우 다양한 4 가지 크기의 물질에 이르기까지 자외선 또는 심오자외선 노출에 적합합니다.      반도체 제조, 광전자, 평판, RF 마이크로웨이브, 확산형 광학, MEMS, 오목  볼록 또는 크리스탈 코팅 장비 및 기타 응용 분야에 널리 사용될 수 있습니다.
 애플리케이션 필드   
반도체  제조, 광전자, 평면  패널, 무선  주파수  마이크로웨이브, 회절  광학,  MEMS, 오가브 볼록 또는 코팅 결정 장비.

사양 매개변수    
 

프로젝트	내용
칩  크기	4인치, 6 인치, 8 인치
노출  광원	365nm, 380nm, 395nm 3파장 LED 통합형  광원
전원 문제 해결	3μm
정렬 정확도	300nm
배율 배수	1:5
노출 모드	접촉 노출
피처 크기  균일성	±10%
크기	170cm  * 130cm  * 180cm